Dari 1 hingga 3 September 2026, ACLE (All China Leather Exhibition) akan diadakan dengan megah di Pusat Ekspo Antarabangsa Baharu Shanghai. Xuchuan Chemical akan mempamerkan produk poliuretana berprestasi tinggi untuk sektor kulit pada acara industri ini (Booth E5-C11a), mempersembahkan penyelesaian bahan termaju kepada pelanggan dalam industri kulit dan kulit sintetik.
Sebagai pakar dalam bahan poliuretana, Xuchuan Chemical amat komited terhadap R&D dan pembuatan bahan kimia untuk kulit sintetik. Pada pameran ini, syarikat itu akan mengetengahkan penyelesaian komprehensif—termasuk produk bebas pelarut, mikrofiber dan poliuretana berfungsi—yang sejajar dengan trend industri ke arah pembangunan hijau, karbon rendah dan berprestasi tinggi. Penyelesaian ini memenuhi pelbagai aplikasi seperti kulit tiruan dan kulit mikrofiber, membantu produk kulit mencapai peningkatan mesra alam dan peningkatan prestasi.
Pada pameran itu, pasukan teknikal dan jualan Xuchuan Chemical akan terlibat dalam perbincangan secara bersemuka yang mendalam dengan pelanggan yang melawat. Mereka akan menangani cabaran pengeluaran khusus, meneroka keperluan pembangunan produk tersuai, dan berkongsi pengalaman praktikal berkenaan penggunaan bahan baharu. Memanfaatkan sistem R&D yang teguh, syarikat terus berinovasi bahan poliuretana mesra alam, menyediakan sokongan bahan yang stabil dan boleh dipercayai untuk rantaian bekalan industri kulit.
ACLE ialah pameran profesional yang sangat berpengaruh untuk industri kulit di rantau Asia-Pasifik, menghimpunkan perusahaan dari seluruh rantaian bekalan. Xuchuan Chemical akan menggunakan platform ini untuk membincangkan arah aliran pasaran dengan rakan kongsi industri, mengenal pasti peluang kerjasama dan terus memacu pembangunan hijau berkualiti tinggi bagi industri kulit dan kulit sintetik.
Kami dengan ikhlas menjemput rakan sekerja industri untuk melawat gerai Xuchuan Chemical (E5-C11a di Pusat Ekspo Antarabangsa Baharu Shanghai) untuk membincangkan perniagaan dan meneroka peluang baharu dalam bahan kulit.